薄片通道排氣閥和高真空排氣閥的排氣性能和真空性能比較
發(fā)布:dxwk | 發(fā)布時(shí)間: 2012年10月24日1、兩種排氣閥排氣性能對(duì)比
兩種排氣閥工作在雙通道狀態(tài),分別在高速位置為80mm,160mm和240mm,高速速度0.5-3 m/s的條件下作空壓射動(dòng)作時(shí),型腔中心的壓力傳感器測(cè)得的型腔背壓峰值數(shù)據(jù)??梢钥闯觯捎酶哒婵?strong>排氣閥后的型腔背壓在較低的速度參數(shù)下較薄片通道排氣閥有顯著的下降。隨著高速速度的增大,兩種閥的背壓差別減小。
兩排氣閥在單通道狀態(tài)下的相應(yīng)數(shù)據(jù),也顯示出類似的規(guī)律。并且,隨著高速行程的縮短,氣體流動(dòng)受到的干擾增大,結(jié)果的不規(guī)律性增加。但總體上,在實(shí)際壓鑄生產(chǎn)較多應(yīng)用的工藝條件范圈,采用高真空排氣閥可以有效地降低常規(guī)壓鑄中的型腔背壓,從而降低鑄件中的氣體含量,提高壓鑄件質(zhì)量。
2、兩種排氣閥真空性能對(duì)比
兩種排氣閥分別在模具狀態(tài)不同情況下,沖頭靜止于不同位置時(shí)的型腔真空度數(shù)據(jù)??梢钥闯?,在各個(gè)狀態(tài)下的HVV閥都顯示出更高的真空性能。同時(shí),沖頭的靜止位置距離初始位置越遠(yuǎn),型腔的真空度就越低。這是因?yàn)榭諌荷淝闆r下壓室中沒(méi)有金屬液,沖頭與壓室壁的間隙難以得到密封,存在漏氣現(xiàn)象。沖頭靜止后到型腔的距離越近,這種漏氣對(duì)型腔真空度的影響也就越大。
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